俄罗斯成功研发首台国产光刻机，计划2028年量产7nm芯片

华新报-欧浪新闻网讯 2024年5月26日，俄罗斯宣布其首台自主研发的光刻机已成功制造，并正在进行测试。该设备能够生产350nm制程工艺芯片，可应用于汽车、能源和电信等行业。此消息由俄罗斯联邦工业和贸易部副部长施帕克在“工业俄罗斯数字产业”会议上公布。


施帕克表示：“我们组装并制造了第一台国产平版印刷光刻机，目前它正在泽列诺格勒的技术生产线上进行测试。”这款光刻机的成本约为500万卢布（约4.95万美元）。

如果施帕克的说法属实，俄罗斯将成为继美国、荷兰、日本等国之后，第五个完全掌握光刻技术的国家。这也是在美国制裁下唯一自研出全新芯片光刻机的国家。

俄罗斯计划逐步推进更先进的光刻技术。预计到2026年，俄罗斯将制造出首台国产130nm光刻原型机，并计划进一步开发90nm光刻机。施帕克透露，俄罗斯还将制造首台国产7nm芯片光刻机设备，预计于2028年全面投产。

此外，俄罗斯政府正大力支持国内半导体产业的发展。根据规划，到2030年，俄罗斯半导体在世界市场的份额将接近3%，国产电子元器件比例将从目前的11%提高到70%。